碳化钨涂层的性能与等离子工艺参数的关系
在电流70A, 改变等离子电压和等离子电压60V, 改变等离子电流条件下涂层的微观硬度变化趋势。其中Ar-N2 气体的涂层硬度随着等离子电压的增加而明显提高。另外, 涂层的硬度与涂层的相组成有关, 当等离子能量提高时, 促进分子分解,从而导致涂层硬度下降。氮气含量随着增加, 提高了等离子电压, 导致涂层硬度增加, 这一结果可以认为是由于氮气流量的增加, 明显地提高了等离子流体和粉末粒子速度的缘故。而等离子气体为Ar-H2 时, 涂层硬度变化小, 这主要是氢气变化量很小时就能引起等离子电压变化。当等离子电压为60V, 改变等离子电流, 两种气体的涂层硬度变化很小。上述可见, 涂层的硬度与等离子体压力, 即流速有关。